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    產品介紹 >> 研發中試實驗室設備
     
    CMD2000/4實驗室濕法粉碎機
      實驗室濕法粉碎機是濕磨機濕磨是干磨的一種安全而#效的替代方案,基于轉子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大,可實現10 µm及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產品。鑒于其處理能力,IKN濕磨機被用于諸多應用,如織物涂料、漆、染紙顏料和潤滑脂濕磨。
    CMD200O/4實驗室研磨分散機
      實驗室研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的gao速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料chao細粉碎及乳化的效果。
    PP2000/4實驗室均質機
      LP2000/4和PP2000/4中試型實驗室均質機專為實驗研發,模擬工業管線式生產流程而設計,給工業化提供可kao的數據論證。LP2000/4和PP2000/4中試型高剪切均質機與大型工業管線式量產機型配置基本相同,各種工作頭的種類及相應線速度亦相同,中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整,從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到#di
    LP2000/4實驗室分散機
      LP2000/4和PP2000/4中試型實驗室分散機專為實驗研發,模擬工業管線式生產流程而設計,給工業化提供ke kao的數據論證。LP2000/4和PP2000/4中試型分散機與大型工業管線式量產機型配置基本相同,各種工作頭的種類及相應線速度亦相同,中試過程中的工藝參數在工業化后之后不用重新調整,從而將機器型號升級到工業化的過程中的風險降到#di
    CMD2000/4實驗室研磨機
      CMD2000/4實驗室研磨機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第er級由轉定子組成。
    CM2000/4(PP2000/4)中試型膠體磨
      中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的gao速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生 向下的螺旋沖擊力,透過中試型膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有xiao地乳化、分散和粉碎,da到物料超細粉碎及乳化的效果。
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